聚焦离子束分析

离子束作为一种新兴的技术，近年来在材料分析和制备等领域得到广泛应用，是材料学研究中不可缺少的重要技术。但是，由于离子束具有大尺度，小尺度等多种分布，离子束聚焦技术也受到了极大的关注。

聚焦离子束分析(FIB)是指把一个离子束内的离子通过电场线性以及旋转偏移来定位，以获得精确的尺度和聚焦的离子束尺寸。使用这种聚焦离子束技术实现高性能、低外延的镀层，分析和制备等工作，为进一步探索材料极限、改善材料性能提供了有力工具。

微电子材料、亚微米级器件等

GB/T 34326-2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法
ISO 16531-2013 表面化学分析.深度剖析.原子发射光谱(AES)和光电子能谱(XPS)中深度剖析用电流或电流密度的离子束校正和相关测量方法
ASTM E1577-2011 用于表面分析的离子束参数报告的标准指南
ASTM E684-2004 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
ASTM E1577-2004 用于表面分析的离子束参数报告的标准指南

行业认可：国企背景，资质齐全、大型研究型检测机构

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